奈米制造的光刻的基本模式的步骤控制芯片的大小。说在光刻,短波长的电源是条件与光学图像,然后缩小与更多的光学光敏化学覆盖衬底的薄膜,典型的硅。重复这一步,直到所有可用的表面积对底物暴露相同的形象;结果被称为层。多个接触层需要创建复杂的微观结构组成的筹码。为了防止产生问题由于层间连接失败,所有的模式层之间必须排队。
确保层对齐而不影响吞吐量,ASML TWINSCAN光刻系统必须对齐标志的数量限制措施之前曝光的一步。总的原则是,测量校准所需的时间是不能超过所需的时间暴露前序列中的晶圆片。由于所需的大量的覆盖是一个合适的覆盖模型校正,这不是可行的衡量每一个晶片的TWINSCAN系统。
ASML使用MATLAB®和统计和机器学习工具箱™开发虚拟叠加计量软件。这个软件应用机器学习技术,提出一个预测估计的叠加计量晶片,使用校准计量数据。
”的工作我们已经完成了MATLAB和机器学习展示行业领导最好的使用现有的计量,”埃米尔Schmitt-Weaver说在ASML应用开发工程师。“我们发表的论文在这个工作吸引了顾客的兴趣提高他们的生产流程与ASML产品。”下载188bet金宝搏